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　　大氣VOCs監(jiān)測(cè)過(guò)程通常可分為樣品采集、樣品富集與樣品分析等過(guò)程。樣品采集包括直接采樣、衍生化采樣等方法，也可通過(guò)吸附劑吸附的方式在采樣過(guò)程中同時(shí)完成樣品的采集與富集。樣品采集后，可通過(guò)預(yù)濃縮等技術(shù)富集并進(jìn)行分析。

　　安裝VOCs監(jiān)測(cè)系統(tǒng)要注意哪些問(wèn)題

　　1.安裝位置不漏風(fēng)，位于固定污染源排放控制設(shè)備的下游和比對(duì)監(jiān)測(cè)斷面上游， 不受環(huán)境光線和電磁輻射的影響， 煙道振動(dòng)幅度盡可能小且安裝位置應(yīng)盡量避開(kāi)廢氣中水滴和水霧的干擾，如不能避開(kāi)，應(yīng)選用能夠適用的檢測(cè)探頭及儀器。

　　2. 安裝NMHC-CEMS的工作區(qū)域應(yīng)設(shè)置一個(gè)防水低壓配電箱，內(nèi)設(shè)漏電保護(hù)器、不少于2個(gè)10A插座，保證監(jiān)測(cè)設(shè)備所需電力。

　　3.  應(yīng)合理布置采樣平臺(tái)與采樣孔。

　　a) 采樣或監(jiān)測(cè)平臺(tái)長(zhǎng)度應(yīng)≥2m，寬度應(yīng)≥2m或不小于采樣槍長(zhǎng)度外延1m，周圍設(shè)置1.2m以上的安全防護(hù)欄，有牢固并符合要求的安全措施，便于日常維護(hù)和比對(duì)監(jiān)測(cè)；

　　b) 采樣或監(jiān)測(cè)平臺(tái)應(yīng)易于人員和監(jiān)測(cè)儀器到達(dá)，當(dāng)采樣平臺(tái)設(shè)置在離地面高度≥2m的位置時(shí)，應(yīng)有通往平臺(tái)的斜梯(或Z字梯、旋梯)，寬度應(yīng)≥0.9m；當(dāng)采樣平臺(tái)設(shè)置在離地面高度≥20m的位置時(shí)，應(yīng)有通往平臺(tái)的升降梯；

　　c) 當(dāng)NMHC-CEMS安裝在矩形煙道時(shí)，若煙道截面的高度>4m，則不宜在煙道頂層開(kāi)設(shè)參比方法采樣孔；若煙道截面的寬度>4m，則應(yīng)在煙道兩側(cè)開(kāi)設(shè)參比方法采樣孔，并設(shè)置多層采樣平臺(tái)；

　　d) 在NMHC-CEMS監(jiān)測(cè)斷面下游應(yīng)預(yù)留參比方法采樣孔，采樣孔位置和數(shù)目按照GB/T 16157的要求確定?，F(xiàn)有污染源參比方法采樣孔內(nèi)徑應(yīng)≥80mm，新建或改建污染源參比方法采樣孔內(nèi)徑應(yīng)≥90mm。在互不影響測(cè)量的前提下，參比方法采樣孔應(yīng)盡可能靠近NMHC-CEMS監(jiān)測(cè)斷面。當(dāng)煙道為正壓煙道或有毒氣時(shí)，應(yīng)采用帶閘板閥的密封采樣孔；

　　e) 若無(wú)適當(dāng)采樣孔時(shí)，可將采樣管直接由排放口插入2倍直徑或2m深處采樣。若采樣孔位于排放管道負(fù)壓處，則采樣管與采樣孔之間應(yīng)*密封。

　　4. 應(yīng)優(yōu)先選擇在垂直管段和煙道負(fù)壓區(qū)域，確保所采集樣品的代表性。測(cè)定位置應(yīng)避開(kāi)煙道彎頭和斷面急劇變化的部位，對(duì)于新建排放源，采樣平臺(tái)應(yīng)與排氣裝置同步設(shè)計(jì)、同步建設(shè)。

　　5. 為便于流速參比方法的校驗(yàn)和比對(duì)監(jiān)測(cè)，NMHC-CEMS不宜安裝在煙道內(nèi)廢氣流速<5m/s的位置。

　　6.  若一個(gè)固定污染源排氣先通過(guò)多個(gè)煙道或管道后進(jìn)入該固定污染源的總排氣管時(shí)，應(yīng)盡可能將NMHC-CEMS安裝在總排氣管上，但要便于用參比方法校驗(yàn)NMHC-CEMS；不得只在其中的一個(gè)煙道或管道上安裝NMHC-CEMS，并將測(cè)定值作為該源的排放結(jié)果；但允許在每個(gè)煙道或管道上安裝NMHC-CEMS。

　　7.  固定污染源廢氣凈化設(shè)備設(shè)置有旁路煙道時(shí)，應(yīng)在旁路煙道內(nèi)安裝NMHC-CEMS或煙溫、流量CMS，其安裝、運(yùn)行、維護(hù)、數(shù)據(jù)采集、記錄和上傳應(yīng)符合相關(guān)技術(shù)要求。